Povlak SiCGrafitová část půlměsíceje klíčovou součástí používanou v procesech výroby polovodičů, zejména pro epitaxní zařízení SiC. Používáme naši patentovanou technologii k výrobě poloměsícových dílů s extrémně vysokou čistotou, dobrou rovnoměrností povlaku a vynikající životností, stejně jako s vysokou chemickou odolností a tepelnou stabilitou.
