SiC oplatková loďka
Loď s destičkami z karbidu křemíkuje nosné zařízení pro destičky, používané hlavně v solárních a polovodičových difúzních procesech. Má vlastnosti, jako je odolnost proti opotřebení, odolnost proti korozi, odolnost proti nárazu při vysokých teplotách, odolnost proti plazmovému bombardování, únosnost při vysokých teplotách, vysoká tepelná vodivost, vysoký odvod tepla a dlouhodobé používání, které se snadno neohýbá a nedeformuje. Naše společnost používá vysoce čistý karbid křemíku pro zajištění životnosti a poskytuje zakázkové provedení, včetně různých vertikálních a horizontálních provedení.oplatková loďka.
Pádlo z SiC
Ten/Ta/Tokonzolová lopatka z karbidu křemíkuse používá hlavně při (difuzním) povlakování křemíkových destiček, které hraje klíčovou roli při nakládání a přepravě křemíkových destiček za vysoké teploty. Je klíčovou součástípolovodičová destičkanakládací systémy a má následující hlavní vlastnosti:
1. Nedeformuje se v prostředí s vysokou teplotou a má vysokou zatěžovací sílu na destičky;
2. Je odolný vůči extrémnímu chladu a rychlému zahřátí a má dlouhou životnost;
3. Koeficient tepelné roztažnosti je malý, což výrazně prodlužuje cyklus údržby a čištění a významně snižuje znečišťující látky.
Trubka pece z SiC
Procesní trubice z karbidu křemíku, vyrobený z vysoce čistého SiC bez kovových nečistot, neznečišťuje destičku a je vhodný pro procesy, jako je difúze, žíhání a oxidace polovodičů a fotovoltaiky.
Robotické rameno SiC
Robotické rameno SiC, také známý jako koncový efektor pro přenos polovodičových destiček, je robotické rameno používané k přepravě polovodičových destiček a je široce používáno v polovodičovém, optoelektronickém a solárním průmyslu. Použití vysoce čistého karbidu křemíku s vysokou tvrdostí, odolností proti opotřebení, seismickou odolností, dlouhodobým používáním bez deformace, dlouhou životností atd. umožňuje poskytovat služby na míru.
Grafit pro růst krystalů
Grafitový kelímek se třemi okvětními lístky
Grafitová vodicí trubice
Grafitový prsten
Grafitový tepelný štít
Grafitová elektroda
Grafitový deflektor
Grafitové sklíčidlo
Všechny procesy používané pro pěstování polovodičových krystalů probíhají ve vysokoteplotním a korozivním prostředí. Horká zóna pece pro růst krystalů je obvykle pokryta žáruvzdornými a korozivzdornými grafitovými komponenty vysoké čistoty, jako jsou grafitové ohřívače, kelímky, válce, deflektory, sklíčidla, trubky, kroužky, držáky, matice atd. Náš hotový výrobek může dosáhnout obsahu popela nižšího než 5 ppm.
Grafit pro polovodičovou epitaxi
Grafitová základna
Grafitový epitaxní válec
Monokrystalická křemíková epitaxní báze
MOCVD grafitové díly
Polovodičový grafitový přípravek
Epitaxní proces označuje růst monokrystalického materiálu na monokrystalickém substrátu se stejným uspořádáním mřížky jako substrát. Vyžaduje mnoho ultračistých grafitových dílů a grafitový základ s povlakem SIC. Vysoce čistý grafit používaný pro polovodičovou epitaxi má širokou škálu aplikací, které se vyrovnají většině běžně používaných zařízení v průmyslu. Zároveň má extrémně vysokou čistotu, rovnoměrný povlak, vynikající životnost a extrémně vysokou chemickou odolnost a tepelnou stabilitu.
Izolační materiál a další
Tepelněizolační materiály používané při výrobě polovodičů jsou tvrdá grafitová plsť, měkká plsť, grafitová fólie, uhlíkové kompozitní materiály atd. Naše suroviny jsou dovážené grafitové materiály, které lze řezat dle specifikace zákazníka a také prodávat jako celek. Uhlíkový kompozitní materiál se obvykle používá jako nosič pro výrobní proces solárních monokrystalů a polykřemíkových článků.