6palcový substrát sic typu n

Krátký popis:

6palcový substrát SiC typu n‌ je polovodičový materiál vyznačující se použitím velikosti 6palcového plátku, což zvyšuje počet zařízení, která lze vyrobit na jednom plátku na větší ploše, čímž se snižují náklady na úrovni zařízení . Vývoj a aplikace 6palcových substrátů SiC typu n těžily z pokroku technologií, jako je metoda růstu RAF, která snižuje dislokace řezáním krystalů podél dislokací a paralelních směrů a znovu rostoucími krystaly, čímž se zlepšuje kvalita substrátu. Aplikace tohoto substrátu má velký význam pro zlepšení efektivity výroby a snížení nákladů na SiC výkonová zařízení.

 


Detail produktu

Štítky produktu

Monokrystalový materiál karbidu křemíku (SiC) má velkou šířku zakázaného pásu (~Si 3krát), vysokou tepelnou vodivost (~Si 3,3krát nebo GaAs 10krát), vysokou rychlost migrace elektronového nasycení (~Si 2,5krát), vysoký elektrický průraz pole (~Si 10krát nebo GaAs 5krát) a další vynikající vlastnosti.

Polovodičové materiály třetí generace zahrnují především SiC, GaN, diamant atd., protože jejich šířka zakázaného pásu (Eg) je větší nebo rovna 2,3 elektronvoltům (eV), také známá jako polovodičové materiály s širokým pásmem. Ve srovnání s polovodičovými materiály první a druhé generace mají polovodičové materiály třetí generace výhody vysoké tepelné vodivosti, vysokého průrazného elektrického pole, vysoké rychlosti migrace nasycených elektronů a vysoké vazebné energie, které mohou splnit nové požadavky moderní elektronické technologie na vysokou odolnost vůči teplotě, vysokému výkonu, vysokému tlaku, vysoké frekvenci a radiaci a dalším drsným podmínkám. Má důležité aplikační vyhlídky v oblasti národní obrany, letectví, letectví, průzkumu ropy, optického skladování atd., a může snížit energetické ztráty o více než 50 % v mnoha strategických odvětvích, jako je širokopásmová komunikace, solární energie, výroba automobilů, polovodičové osvětlení a inteligentní síť a může snížit objem zařízení o více než 75 %, což má zásadní význam pro rozvoj lidské vědy a technologie.

Semicera energy může zákazníkům poskytnout vysoce kvalitní vodivý (vodivý), poloizolační (poloizolační), HPSI (poloizolační poloizolační) substrát z karbidu křemíku; Kromě toho můžeme zákazníkům poskytnout homogenní a heterogenní epitaxní desky z karbidu křemíku; Můžeme také upravit epitaxní list podle specifických potřeb zákazníků a neexistuje žádné minimální množství objednávky.

ZÁKLADNÍ SPECIFIKACE PRODUKTU

Velikost

 6-palcový
Průměr 150,0 mm + 0 mm/-0,2 mm
Orientace povrchu mimo osu:4° směrem k <1120>±0,5°
Primární plochá délka 47,5 mm 1,5 mm
Primární orientace bytu <1120>±1,0°
Sekundární byt Žádný
Tloušťka 350,0 um±25,0 um
Polytyp 4H
Vodivý typ n-typu

SPECIFIKACE KŘIŠŤÁLOVÉ KVALITY

6-palcový
Položka Třída P-MOS Stupeň P-SBD
Odpor 0,015Ω·cm-0,025Ω·cm
Polytyp Žádný povolený
Hustota mikropipe ≤0,2/cm2 ≤0,5/cm2
EPD ≤4000/cm2 ≤8000/cm2
TED ≤3000/cm2 ≤6000/cm2
BPD ≤1000/cm2 ≤2000/cm2
TSD ≤300/cm2 ≤1000/cm2
SF (měřeno pomocí UV-PL-355nm) ≤ 0,5 % plochy ≤ 1 % plochy
Šestihranné desky při vysoké intenzitě světla Žádný povolený
Vizuální uhlíkové inkluze při vysoké intenzitě světla Kumulativní plocha≤0,05 %
微信截图_20240822105943

Odpor

Polytyp

6 lnch substrát typu n sic (3)
6 lnch substrát typu n sic (4)

BPD&TSD

6 lnch substrát typu n sic (5)
SiC oplatky

  • Předchozí:
  • Další: