Semicera poskytuje specializované povlaky karbidu tantalu (TaC) pro různé součásti a nosiče.Přední povlakovací proces Semicera umožňuje povlakům z karbidu tantalu (TaC) dosáhnout vysoké čistoty, vysoké teplotní stability a vysoké chemické tolerance, což zlepšuje kvalitu produktu krystalů SIC/GAN a vrstev EPI (TaC susceptor potažený grafitem) a prodloužení životnosti klíčových součástí reaktoru.Použití povlaku karbidu tantalu TaC má vyřešit problém hran a zlepšit kvalitu růstu krystalů a Semicera průlom vyřešila technologii povlakování karbidu tantalu (CVD), čímž dosáhla mezinárodní pokročilé úrovně.
Grafit je vynikající vysokoteplotní materiál, ale při vysokých teplotách snadno oxiduje.I ve vakuových pecích s inertním plynem může stále podléhat pomalé oxidaci.Použití CVD povlaku z karbidu tantalu (TaC) může účinně chránit grafitový substrát a poskytuje stejnou odolnost vůči vysokým teplotám jako grafit.TaC je také inertní materiál, což znamená, že nebude reagovat s plyny, jako je argon nebo vodík při vysokých teplotách.PoptávkaZakázkové CVD TaC povlakové díly Nyní!
s a bez TaC
Po použití TaC (vpravo)
Navíc Semicera'sProdukty potažené TaCvykazují delší životnost a vyšší odolnost vůči vysokým teplotám ve srovnání sSiC povlaky.Laboratorní měření prokázala, že našeTaC povlakymůže trvale fungovat při teplotách až 2300 stupňů Celsia po dlouhou dobu.Níže uvádíme několik příkladů našich vzorků:
