Vlastní polovodičový ICP zásobník (leptání)

Krátký popis:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. je předním dodavatelem specializujícím se na wafery a pokročilé polovodičové spotřební materiály.Jsme odhodláni poskytovat vysoce kvalitní, spolehlivé a inovativní produkty pro výrobu polovodičů,fotovoltaický průmysla další související obory.

Naše produktová řada zahrnuje grafitové produkty potažené SiC/TaC a keramické produkty, zahrnující různé materiály, jako je karbid křemíku, nitrid křemíku a oxid hlinitý atd.

Jako důvěryhodný dodavatel chápeme důležitost spotřebního materiálu ve výrobním procesu a jsme odhodláni dodávat produkty, které splňují nejvyšší standardy kvality, aby vyhovovaly potřebám našich zákazníků.

 

Detail produktu

Štítky produktu

Popis produktu

Naše společnost poskytuje služby procesu povlakování SiC metodou CVD na povrchu grafitu, keramiky a dalších materiálů tak, že speciální plyny obsahující uhlík a křemík reagují při vysoké teplotě za získání vysoce čistých molekul SiC, molekul usazených na povrchu povlakovaných materiálů, tvoří ochrannou vrstvu SIC.

Hlavní vlastnosti:

1. Odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách:

odolnost proti oxidaci je stále velmi dobrá, když je teplota až 1600 C.

2. Vysoká čistota: vyrobena chemickou depozicí par za podmínek chlorace při vysoké teplotě.

3. Odolnost proti erozi: vysoká tvrdost, kompaktní povrch, jemné částice.

4. Odolnost proti korozi: kyselinám, zásadám, solím a organickým činidlům.

3

Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC

Vlastnosti SiC-CVD

Krystalová struktura

FCC β fáze

Hustota

g/cm³

3.21

Tvrdost

Tvrdost podle Vickerse

2500

Velikost zrna

μm

2~10

Chemická čistota

%

99,99995

Tepelná kapacita

J·kg-1 ·K-1

640

Teplota sublimace

2700

Felexurální síla

MPa (RT 4-bodové)

415

Youngův modul

Gpa (4pt ohyb, 1300℃)

430

Tepelná roztažnost (CTE)

10-6K-1

4.5

Tepelná vodivost

(W/mK)

300


  • Předchozí:
  • Další: