Semicera LiNbO3 Bonding Wafer je navržen tak, aby splňoval vysoké požadavky pokročilé výroby polovodičů. Díky svým výjimečným vlastnostem, včetně vynikající odolnosti proti opotřebení, vysoké tepelné stability a vynikající čistoty, je tento plátek ideální pro použití v aplikacích, které vyžadují přesnost a dlouhotrvající výkon.
V polovodičovém průmyslu se lepicí destičky LiNbO3 běžně používají pro spojování tenkých vrstev v optoelektronických zařízeních, senzorech a pokročilých integrovaných obvodech. Jsou zvláště ceněny ve fotonice a MEMS (Micro-Electromechanical Systems) díky svým vynikajícím dielektrickým vlastnostem a schopnosti odolávat náročným provozním podmínkám. Semicera LiNbO3 Bonding Wafer je navržen tak, aby podporoval přesné spojování vrstev, čímž zvyšuje celkový výkon a spolehlivost polovodičových součástek.
Tepelné a elektrické vlastnosti LiNbO3 | |
Bod tání | 1250 ℃ |
Curieova teplota | 1140 ℃ |
Tepelná vodivost | 38 W/m/K při 25 ℃ |
Koeficient tepelné roztažnosti (@ 25°C) | //a, 2,0×10-6/K //c, 2,2×10-6/K |
Odpor | 2×10-6Ω·cm @ 200 ℃ |
Dielektrická konstanta | εS11/ε0=43, εT11/ε0=78 εS33/ε0=28, εT33/ε0= 2 |
Piezoelektrická konstanta | D22= 2,04 x 10-11C/N D33= 19,22 × 10-11C/N |
Elektrooptický koeficient | γT33=32 pm/V, γS33= 31 hodin/V, γT31=10 pm/V, γS31= 20,6 hodin/V, γT22= 18,8 pm/V, γS22= 15,4 hod/V, |
Půlvlnné napětí, DC | 3,03 KV 4,02 KV |
LiNbO3 Bonding Wafer, vyrobený z materiálů nejvyšší kvality, zajišťuje konzistentní spolehlivost i za extrémních podmínek. Jeho vysoká tepelná stabilita ho činí zvláště vhodným pro prostředí se zvýšenými teplotami, jako jsou ty, které se vyskytují v procesech epitaxe polovodičů. Vysoká čistota destičky navíc zajišťuje minimální kontaminaci, což z ní dělá důvěryhodnou volbu pro kritické polovodičové aplikace.
Ve společnosti Semicera jsme odhodláni poskytovat špičková řešení. Náš LiNbO3 Bonding Wafer poskytuje bezkonkurenční odolnost a vysoce výkonné schopnosti pro aplikace vyžadující vysokou čistotu, odolnost proti opotřebení a tepelnou stabilitu. Ať už jde o pokročilou výrobu polovodičů nebo jiné specializované technologie, tento wafer slouží jako základní součást pro výrobu špičkových zařízení.