TheMOCVDmetoda je jedním z nejstabilnějších procesů, které se v současnosti v průmyslu používají k pěstování vysoce kvalitních monokrystalických tenkých vrstev, jako jsou jednofázové epivrstvy InGaN, materiály III-N a polovodičové filmy se strukturou mnoha kvantových vrtů, a má velký význam v výroba polovodičových a optoelektronických součástek.
TheSiC povlak MOCVD susceptorje specializovaný držák destiček potažený karbidem křemíku (SiC) proepitaxní růst v procesu metal organické chemické depozice z plynné fáze (MOCVD).
Povlak SiC má vynikající chemickou odolnost a tepelnou stabilitu, díky čemuž je ideální volbou pro MOCVD susceptory používané v náročných procesech epitaxního růstu.
Klíčovou složkou procesu MOCVD je susceptor, který je klíčovým prvkem pro zajištění jednotnosti a kvality vyráběných tenkých filmů.
Co je susceptor? Susceptor je specializovaná součást používaná v procesu MOCVD k podpoře a ohřevu substrátu, na který je nanesen tenký film. Má několik funkcí, včetně absorbování elektromagnetické energie, její přeměny na teplo a rovnoměrného rozložení tepla na substrát. Toto rovnoměrné zahřívání je nezbytné pro růst jednotných tenkých filmů s přesnou tloušťkou a složením.
Typy susceptorů:
1. Grafitové susceptory: Grafitové susceptory jsou často potaženy ochrannou vrstvou jako např.karbid křemíku (SiC), který je známý svou vysokou tepelnou vodivostí a stabilitou. TheSiC povlakposkytuje tvrdý ochranný povrch, který odolává korozi a degradaci při vysokých teplotách.
2. Susceptory z karbidu křemíku (SiC): Tyto susceptory jsou vyrobeny výhradně z SiC a mají vynikající tepelnou stabilitu a odolnost proti opotřebení. SiC susceptory jsou zvláště vhodné pro vysokoteplotní procesy a korozivní prostředí.
Jak fungují susceptory v MOCVD:
V procesu MOCVD se prekurzory zavádějí do reakční komory, kde se rozkládají a reagují za vzniku tenkého filmu na substrátu. Susceptor hraje zásadní roli tím, že zajišťuje rovnoměrné zahřívání substrátu, což je rozhodující pro dosažení konzistentních vlastností filmu po celém povrchu substrátu. Materiál a konstrukce susceptoru jsou pečlivě vybírány tak, aby splňovaly specifické požadavky procesu nanášení, jako je teplotní rozsah a chemická kompatibilita.
Výhody použití vysoce kvalitních susceptorů:
• Vylepšená kvalita filmu: Tím, že poskytuje rovnoměrné rozložení tepla, pomáhá susceptor dosáhnout filmů s konzistentní tloušťkou a složením, což je rozhodující pro výkon polovodičových zařízení.
• Zlepšená efektivita procesu: Vysoce kvalitní susceptory zvyšují celkovou efektivitu MOCVD procesu snížením pravděpodobnosti defektů a zvýšením výtěžnosti použitelných filmů.
• Životnost a spolehlivost: Susceptory vyrobené z odolných materiálů, jako je SiC, zajišťují dlouhodobou spolehlivost a snižují náklady na údržbu.
Susceptor je nedílnou součástí procesu MOCVD a přímo ovlivňuje kvalitu a účinnost nanášení tenkých vrstev. Pro více informací o dostupných velikostech, MOCVD susceptorech a cenách nás prosím neváhejte kontaktovat. Naši inženýři vám rádi poradí s vhodnými materiály a zodpoví všechny vaše dotazy.
Telefon: +86-13373889683
WhatsAPP: +86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Čas odeslání: 12. srpna 2024