Úvod do CVD TaC povlakování:
CVD TaC Coating je technologie, která využívá chemické napařování k nanášení povlaku karbidu tantalu (TaC) na povrch substrátu. Karbid tantalu je vysoce výkonný keramický materiál s vynikajícími mechanickými a chemickými vlastnostmi. Proces CVD vytváří stejnoměrný film TaC na povrchu substrátu prostřednictvím reakce plynu.
Hlavní rysy:
Vynikající tvrdost a odolnost proti opotřebení: Karbid tantalu má extrémně vysokou tvrdost a povlak CVD TaC může výrazně zlepšit odolnost substrátu proti opotřebení. Díky tomu je povlak ideální pro aplikace v prostředích s vysokým opotřebením, jako jsou řezné nástroje a formy.
Vysoká teplotní stabilita: TaC povlaky chrání kritické součásti pece a reaktoru při teplotách až 2200 °C a prokazují dobrou stabilitu. Zachovává si chemickou a mechanickou stabilitu za extrémních teplotních podmínek, takže je vhodný pro vysokoteplotní zpracování a aplikace ve vysokoteplotním prostředí.
Vynikající chemická stabilita: Karbid tantalu má silnou odolnost proti korozi vůči většině kyselin a zásad a povlak CVD TaC může účinně zabránit poškození substrátu v korozivním prostředí.
Vysoký bod tání: Karbid tantalu má vysokou teplotu tání (přibližně 3880 °C), což umožňuje použití povlaku CVD TaC v podmínkách extrémně vysokých teplot, aniž by došlo k roztavení nebo degradaci.
Výborná tepelná vodivost: Povlak TaC má vysokou tepelnou vodivost, která pomáhá účinně odvádět teplo při vysokoteplotních procesech a zabraňuje místnímu přehřívání.
Potenciální aplikace:
• Součásti epitaxního CVD reaktoru z nitridu galia (GaN) a karbidu křemíku včetně nosičů plátků, satelitních parabol, sprchových hlavic, stropů a susceptorů
• Komponenty pro růst krystalů karbidu křemíku, nitridu galia a nitridu hliníku (AlN), včetně kelímků, držáků semen, vodicích kroužků a filtrů
• Průmyslové komponenty včetně odporových topných prvků, vstřikovacích trysek, maskovacích kroužků a pájecích přípravků
Funkce aplikace:
• Teplotně stabilní nad 2000°C, což umožňuje provoz při extrémních teplotách
• Odolný vůči vodíku (Hz), čpavku (NH3), monosilanu (SiH4) a křemíku (Si), poskytuje ochranu v drsném chemickém prostředí
• Odolnost proti tepelným šokům umožňuje rychlejší pracovní cykly
• Grafit má silnou přilnavost, zajišťuje dlouhou životnost a nedochází k delaminaci povlaku.
• Ultra vysoká čistota pro odstranění zbytečných nečistot nebo kontaminantů
• Konformní pokrytí povlakem s úzkými rozměrovými tolerancemi
Technické specifikace:
Příprava hustých povlaků karbidu tantalu metodou CVD：
Povlak TAC s vysokou krystalinitou a vynikající rovnoměrností:
CVD TAC COATING Technické parametry_Semicera:
Výše uvedené jsou typické hodnoty.
