Semicera poskytuje specializované povlaky karbidu tantalu (TaC) pro různé součásti a nosiče.Přední povlakovací proces Semicera umožňuje povlakům z karbidu tantalu (TaC) dosáhnout vysoké čistoty, vysoké teplotní stability a vysoké chemické tolerance, což zlepšuje kvalitu produktu krystalů SIC/GAN a vrstev EPI (TaC susceptor potažený grafitem) a prodloužení životnosti klíčových součástí reaktoru. Použití povlaku karbidu tantalu TaC má vyřešit problém hran a zlepšit kvalitu růstu krystalů a Semicera průlom vyřešila technologii povlakování karbidu tantalu (CVD), čímž dosáhla mezinárodní pokročilé úrovně.
Grafit je vynikající vysokoteplotní materiál, ale při vysokých teplotách snadno oxiduje. I ve vakuových pecích s inertním plynem může stále podléhat pomalé oxidaci. Použití CVD povlaku z karbidu tantalu (TaC) může účinně chránit grafitový substrát a poskytuje stejnou odolnost vůči vysokým teplotám jako grafit. TaC je také inertní materiál, což znamená, že nebude reagovat s plyny, jako je argon nebo vodík při vysokých teplotách.DotazCVD povlakovací kelímek z karbidu tantalu teď!
s a bez TaC
Po použití TaC (vpravo)
Navíc Semicera'sProdukty potažené TaCvykazují delší životnost a vyšší odolnost vůči vysokým teplotám ve srovnání sSiC povlaky.Laboratorní měření prokázala, že našeTaC povlakymůže trvale fungovat při teplotách až 2300 stupňů Celsia po dlouhou dobu. Níže uvádíme několik příkladů našich vzorků:
