SiC povlakové nosiče pro polovodičové leptání

Krátký popis:

Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd. je předním dodavatelem pokročilé polovodičové keramiky. Mezi naše hlavní produkty patří: leptané kotouče z karbidu křemíku, lodní přívěsy z karbidu křemíku, lodě z karbidu křemíku (PV & Semiconductor), pece z karbidu křemíku, konzolové lopatky z karbidu křemíku, sklíčidlo z karbidu křemíku, nosníky z karbidu křemíku, stejně jako povlaky CVD SiC TaC povlaky.

Produkty se používají hlavně v polovodičovém a fotovoltaickém průmyslu, jako je růst krystalů, epitaxe, leptání, balení, potahování a zařízení difuzních pecí.

 

 


Detail produktu

Štítky produktu

Popis

Naše společnost poskytuje služby procesu povlakování SiC metodou CVD na povrchu grafitu, keramiky a dalších materiálů tak, že speciální plyny obsahující uhlík a křemík reagují při vysoké teplotě za získání vysoce čistých molekul SiC, molekul usazených na povrchu povlakovaných materiálů, tvoří ochrannou vrstvu SIC.

Hlavní vlastnosti

1. Odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách:
odolnost proti oxidaci je stále velmi dobrá, když je teplota až 1600 C.
2. Vysoká čistota: vyrobena chemickou depozicí par za podmínek chlorace při vysoké teplotě.
3. Odolnost proti erozi: vysoká tvrdost, kompaktní povrch, jemné částice.
4. Odolnost proti korozi: kyselinám, zásadám, solím a organickým činidlům.

Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC

Vlastnosti SiC-CVD

Krystalová struktura FCC β fáze
Hustota g/cm³ 3.21
Tvrdost Tvrdost podle Vickerse 2500
Velikost zrna μm 2~10
Chemická čistota % 99,99995
Tepelná kapacita J·kg-1 ·K-1 640
Teplota sublimace 2700
Felexurální síla MPa (RT 4-bodové) 415
Youngův modul Gpa (4pt ohyb, 1300℃) 430
Tepelná roztažnost (CTE) 10-6K-1 4.5
Tepelná vodivost (W/mK) 300
Semicera Pracovní místo
Semicera pracoviště 2
Zařízení stroje
CNN zpracování, chemické čištění, CVD povlak
Naše služba

  • Předchozí:
  • Další: