Třídílný prstenec TaC

Krátký popis:

Grafit je vynikající vysokoteplotní materiál, ale při vysokých teplotách snadno oxiduje. I ve vakuových pecích s inertním plynem může stále podléhat pomalé oxidaci. Použití CVD povlaku z karbidu tantalu (TaC) může účinně chránit grafitový substrát a poskytuje stejnou odolnost vůči vysokým teplotám jako grafit. TaC je také inertní materiál, což znamená, že nebude reagovat s plyny, jako je argon nebo vodík při vysokých teplotách.DotazTřídílný prstenec TaC teď!

Pošlete nám e-mail

Detail produktu

Štítky produktu

Semicera poskytuje specializované povlaky karbidu tantalu (TaC) pro různé součásti a nosiče.Přední povlakovací proces Semicera umožňuje povlakům z karbidu tantalu (TaC) dosáhnout vysoké čistoty, vysoké teplotní stability a vysoké chemické tolerance, což zlepšuje kvalitu produktu krystalů SIC/GAN a vrstev EPI (TaC susceptor potažený grafitem) a prodloužení životnosti klíčových součástí reaktoru. Použití povlaku karbidu tantalu TaC má vyřešit problém hran a zlepšit kvalitu růstu krystalů a Semicera průlom vyřešila technologii povlakování karbidu tantalu (CVD), čímž dosáhla mezinárodní pokročilé úrovně.

Po letech vývoje si Semicera podmanila technologiiCVD TaCspolečným úsilím oddělení výzkumu a vývoje. Vady se snadno vyskytnou v procesu růstu SiC waferů, ale po použitíTaC, rozdíl je značný. Níže je srovnání destiček s a bez TaC, stejně jako dílů Simicera pro růst monokrystalů.

Vysoce účinný povlak z karbidu tantalu_ zlepšuje efektivitu průmyslové výroby a snižuje náklady na údržbu Doporučený obrázek

Tac část pro růst monokrystalu

Povlak karbidu tantalu proti opotřebení_ Chrání zařízení před opotřebením a korozí Doporučený obrázek

Grafit s kroužkem potaženým TaC

s a bez TaC

Po použití TaC (vpravo)

Navíc Semicera'sProdukty potažené TaCvykazují delší životnost a vyšší odolnost vůči vysokým teplotám ve srovnání sSiC povlaky.Laboratorní měření prokázala, že našeTaC povlakymůže trvale fungovat při teplotách až 2300 stupňů Celsia po dlouhou dobu. Níže uvádíme několik příkladů našich vzorků: